還需注意一點(diǎn)就是產(chǎn)品底材本身不要有銹點(diǎn)，如果有銹點(diǎn)那么鍍鈦之后使用一段時(shí)間，很容易出現生銹或者鍍鈦層脫落的現象。首先在光學(xué)方面，一塊光學(xué)玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質(zhì)的薄膜后，即可成為高反射或無(wú)反射(即增透膜)或者作任何預期比例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長(cháng)的吸收，而對另一種波長(cháng)的透射的濾。高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器開(kāi)始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜茉莉，都很需要。

PVD燈具的鋁涂層真空鍍膜。因為是金屬薄膜，DC磁控濺射當然好。速度快。中頻適合鍍復合膜。如果選擇離子源，霍爾離子源就足夠了。但是要注意燈具的大小。一般霍爾離子源為圓形，離子源覆蓋面積有限。你必須用離子束覆蓋所有工件。如果普通霍爾離子源太小，可以考慮陽(yáng)極層離子源。離子源難以發(fā)光的一個(gè)原因是磁場(chǎng)太弱，無(wú)法激發(fā)等離子體。雖然離子源種類(lèi)很多，但基本上是先產(chǎn)生等離子體，然后從等離子體中提取氣體離子，加速成離子束，以便后期注入電子，根據需要中和離子流。

真空鍍膜技術(shù)一般分為物理液相堆積(PVD)技術(shù)和有機化學(xué)液相堆積(有機化學(xué)液相堆積)技術(shù)兩類(lèi)。物理學(xué)液相堆積技術(shù)是指在真空泵標準下用各種物理方法將電鍍材料揮發(fā)成分子、分子結構或弱電解質(zhì)成正離子，立即堆積在基礎表層的方式。硬反映膜主要基于物理學(xué)液體的堆積。利用化學(xué)物質(zhì)的熱揮發(fā)和離子轟擊分子在化學(xué)物質(zhì)表層的磁控濺射等物理學(xué)全過(guò)程，完成化學(xué)物質(zhì)分子從源化學(xué)物質(zhì)到塑料薄膜的控制轉移全過(guò)程。物理學(xué)液相堆積技術(shù)具有薄膜/底材結合性好、塑料薄膜均勻高密度均勻、塑料薄膜厚度可控性好、運用目標廣、磁控濺射復蓋面廣、塑料薄膜堆積厚、鋁合金塑料薄膜平穩、可重復性好的優(yōu)點(diǎn)。有機化學(xué)液相堆積技術(shù)是將塑料薄膜的原素蒸汽和原素的化學(xué)物質(zhì)展示在基礎上，根據液相效果和基礎表層的化學(xué)變化，在基礎上制作金屬材料和化學(xué)物質(zhì)塑料薄膜的方式。